IV Всероссийская конференция "Физические и физико-химические основы ионной имплантации"03.03.12 IV Всероссийская конференция "Физические и физико-химические основы ионной имплантации"С 23 по 26 октября 2012 года в Новосибирске будет проходить IV Всероссийская конференция "Физические и физико-химические основы ионной имплантации". Тематика конференции: Общие физические и физико-химические проблемы ионной имплантации и радиационной физики твердого тела. Физические проблемы ионной имплантации в полупроводники. Физические проблемы ионной имплантации в неполупроводниковые материалы. Ионно-лучевое формирование наноструктур, объектов спинтроники и их свойства. Физические явления дальнодействия при ионном облучении и смежные вопросы. Физические проблемы технологии ионной имплантации и сфокусированных ионных пучков. Подача тезисов до 1 мая 2012 г. страница 1 из 1 |
|
|
© СО РАН |